CT-1200S

Cr (크롬), Ni (니켈) 에칭제

CT-1200S는 반도체 및 LED 공정상에 Cr-Ni층을 식각하여 금속패턴을 형성할 때 사용되는 Cr-Ni 에칭제입니다.

특징

    • 강산성 에칭제로서 Cr층을 효율적으로 에칭시켜 잔사가 남지 않는다.
    • 산화력이 뛰어나 Etching Rate이 빠르다.
    • Photo mask등의 정밀 에칭 필요 시 적합하다.
    • PR과의 반응성이 적어 under cut이 발생하지 않는다.

물성 및 적용방법

외관 :담황색 투명 액상농도 : 원액
냄새 :약산취온도 : 20 ~ 40 ℃
pH(10%) :1.25 ± 0.5적용방법 : 침적, 침적초음파
비중(g/ml) :1.10 ± 0.02포장 : 20L (pail) / 200L (drum)

사용액 관리 요령

1) 용액의 초기 pH를 측정한다.
2) 액의 사용기간이 경과하여 박리력이 떨어지면, pH를 측정하여 보충량을 결정한다.
3) 용액의 장기간 사용으로 액이 노화된 경우, 신규 용액으로 건욕한다.

적용 가능 분야

Metal Photo Mask
Cr Glass

박리 모습

Before Stripping
After Stripping