HD-113
ITO (인디움 틴 옥사이드) 에칭제
HD-113은 ITO 전용etchant이며, 주로 웨이퍼 패턴 에칭 시 PR에 대한 손상을 최소화 하며 원하는 패턴을 구현할 수 있는 제품입니다. 또한 전영만의 기술을 통하여 패턴에 대한 undercut 현상들을 개선하여 차별화 하였습니다. 반도체 분야 이외에 스마트폰 부품 등 다방면의 패턴 에칭을 구현할 수 있습니다.
특징
- PR 손상을 최소화하며 패턴을 구현한다.
- 금속에 대한 과부식이 일어나지 않아 고품질의 패턴을 형성한다.
- 에칭 후 소재 표면에 금속성분, 이물질의 잔사가 남지 않는다.
물성 및 적용방법
농도 : | 원액 | 사용 방법 : | 침적 or 초음파 |
온도 : | 상온 ~ 50 ℃ | 포장 : | 20kg (pail) / 200kg (drum) |
pH : | 1.0 ± 0.5 | 적용 분야 : | ITO etchant |
웨이퍼 ITO 에칭 전,후 비교
에칭 전
에칭 후