IT-1030

[ Negative Photo Resist Stripper ]

IT-1030은 반도체용 PR 박리액으로서 wafer level packaging process 전용으로 개발되었으며, negative PR 제거에 적합한 고성능의 solvent계 bulk PR stripper 입니다.

특징

    • Wafer Bumping에 사용되는 PR 제거 전용 stripper로 개발되었다.
    • Negative PR에 적용 가능한 효율적인 bulk stripper로 ash/etch 잔여물 없이 깨끗이 세척한다.
    • Bump metal과 bump metal substrates에 산화나 damage없이 PR을 제거한다.
    • 넓은 범위의 공정처리 조건(온도와 시간)을 가지도록 디자인되었다.
    • 끓는점(약 180℃)이 높아 용제의 증발량이 적다.

Gold Bump 처리 전

IT-1030 처리 후

Operation Guideline


Product Information

Bath Life :>24 hours
Freezing Point :-10℃
Boiling Point :>180℃
Solubility in Water :100%
Specific Gravity : 1.12kg/L
pH(10% in H20) : 12.54

Metal Etching Rate (문헌자료)

Metal Component Analysis